当社はIC,LSIに必要なシリコン素材、化合物半導体、フォトマスク基板などの電子材料の超精密加工を行っており、その高平坦度研磨技術と高清浄度洗浄技術はお客様の高度なご要望にお応えしております。
| 代表者名 | 強谷 隆彦 |
|---|---|
| 担当者名 | 町田眞一/坂本榮治朗 |
| 郵便番号 | 368-0101 |
| 本社所在地 | 埼玉県秩父郡小鹿野町下小鹿野1111番地 |
| 電話番号 | 0494-75-3333(代) 0494-22-5955(秩父電子株式会社) 営業1部 0494-22-6614(池上) 営業2部 0494-22-6613(中村) |
| ホームページ | http://www.cec-kk.co.jp |
| 企業コード | 042 |
|---|---|
| 地区 | 西秩父商工会 |
| 業種 | 電気機械器具製造業 |
| 従業員数 | 110 |
| 資本金 | 4,600 |
| 年間売上高 | 16億円 |
| ISO | ISO9000 及び ISO14000 |
| 共同受注の有無 | 希望する |
| 商品名 | 大分類 | 小分類 | 内容・特徴 |
|---|---|---|---|
| IC用フォトマスクサブストレート | 電気機械器具製造 | 精密研磨洗浄 | IC用フォトマスクの精密研磨と精密洗浄 |
| 半導体フォトマスク石英 | フォトマスクサブストレート | - | フォトマスク研磨技術 精密研磨加工 フォトマスク洗浄技術 フォトマスク精密洗浄 |
| 化合物半導体 | GaP,GaAsウェハ研磨 | - | 精密研磨加工 精密洗浄 |
| IC・LSI用シリコン素材 | 裏面研削 | テストウェハ | 精密研磨加工 精密洗浄 薄ウェハ 再生研磨 裏面ラップ 裏面ポリッシュ 12インチウェハ薄加工 |
| エピタキシャルウェハ | エピタキシャル成長 | - | エピウェハ |
| 機械種類 | メーカー名 | 台数 | 仕様 |
|---|---|---|---|
| 精密研磨機 | - | 20 | - |
| 精密洗浄機 | - | 4 | - |
| SEM(電子顕微鏡) | - | 1 | - |